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  1. 学術雑誌論文(学内発行分)
  2. 愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編
  3. 第57輯

反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の作製における酸素濃度の効果

http://hdl.handle.net/10424/161
http://hdl.handle.net/10424/161
f3c1d86a-8f6b-4efb-afd9-bcd1088402bb
名前 / ファイル ライセンス アクション
kengei574349.pdf kengei574349.pdf (1.2 MB)
Item type 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1)
公開日 2008-10-22
タイトル
タイトル 反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の作製における酸素濃度の効果
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ識別子 http://purl.org/coar/resource_type/c_6501
資源タイプ departmental bulletin paper
その他のタイトル
その他のタイトル Effects of Oxygen Concentration on Formation of Zinc Oxide Films by Reactive RF Sputtering
著者 清水, 秀己

× 清水, 秀己

WEKO 25
e-Rad 70126936
KAKEN - 研究者検索 70126936

清水, 秀己

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岩田, 航

× 岩田, 航

WEKO 1114

岩田, 航

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研究者総覧へのリンク
清水, 秀己
https://souran.aichi-edu.ac.jp/person/698d51a19d8a121ce581499d7b701668ja.html
著者(別言語)
Shimizu, Hideki
著者(別言語)
Iwata, Wataru
書誌事項 愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編

巻 57, p. 43-49, 発行日 2008-03-01
出版者
出版者 愛知教育大学
ISSN
収録物識別子タイプ ISSN
収録物識別子 1346-1818
書誌情報
愛知教育大学研究報告, 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編. 2008, 57, p. 43-49.
書誌レコードID
収録物識別子タイプ NCID
収録物識別子 AA11528269
著者版フラグ
出版タイプ VoR
出版タイプResource http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85
著者別名
シミズ, ヒデキ
著者別名
イワタ, ワタル
資源タイプ
内容記述タイプ Other
内容記述 text
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Ver.1 2023-06-20 15:27:38.217031
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