WEKO3
-
RootNode
アイテム
反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の作製における酸素濃度の効果
http://hdl.handle.net/10424/161
http://hdl.handle.net/10424/161f3c1d86a-8f6b-4efb-afd9-bcd1088402bb
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
kengei574349.pdf (1.2 MB)
|
|
| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2008-10-22 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 反応性RFスパッタリングによるZnO薄膜の作製における酸素濃度の効果 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Effects of Oxygen Concentration on Formation of Zinc Oxide Films by Reactive RF Sputtering | |||||
| 著者 |
清水, 秀己
× 清水, 秀己× 岩田, 航 |
|||||
| 研究者総覧へのリンク | ||||||
| 清水, 秀己 | ||||||
| https://souran.aichi-edu.ac.jp/person/698d51a19d8a121ce581499d7b701668ja.html | ||||||
| 著者(別言語) | ||||||
| Shimizu, Hideki | ||||||
| 著者(別言語) | ||||||
| Iwata, Wataru | ||||||
| 書誌事項 |
愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編 巻 57, p. 43-49, 発行日 2008-03-01 |
|||||
| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 愛知教育大学 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1346-1818 | |||||
| 書誌情報 | ||||||
| 愛知教育大学研究報告, 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編. 2008, 57, p. 43-49. | ||||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11528269 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| シミズ, ヒデキ | ||||||
| 著者別名 | ||||||
| イワタ, ワタル | ||||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | text | |||||
