WEKO3
アイテム
高周波スパッタリングによるZnO薄膜作製におけるAlドーピング（Ⅱ）
http://hdl.handle.net/10424/3772
http://hdl.handle.net/10424/37723203468c-1ed7-40b1-9696-41f9d7989c16
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
kengei607179.pdf (2.8 MB)
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| Item type | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2011-04-21 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 高周波スパッタリングによるZnO薄膜作製におけるAlドーピング（Ⅱ） | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 透明導電性酸化膜 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Transparent conducting oxide | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Al Doping on Formation of Zinc Oxide Films by RF Sputtering (II) | |||||
| 著者 |
清水, 秀己
× 清水, 秀己× 萩原, 基文 |
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| 研究者総覧へのリンク | ||||||
| 清水, 秀己 | ||||||
| https://souran.aichi-edu.ac.jp/person/698d51a19d8a121ce581499d7b701668ja.html | ||||||
| 著者(別言語) | ||||||
| Shimizu, Hideki | ||||||
| 著者(別言語) | ||||||
| Hagiwara, Motofumi | ||||||
| 書誌事項 |
愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編 巻 60, p. 71-79, 発行日 2011-03-01 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 愛知教育大学 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1884-5150 | |||||
| 書誌情報 | ||||||
| 愛知教育大学研究報告, 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編. 2011, 60, p. 71-79. | ||||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA12466178 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| シミズ, ヒデキ | ||||||
| 著者別名 | ||||||
| ハギワラ, モトフミ | ||||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | text | |||||
