WEKO3
アイテム
偏光解析によるシリコン基板表面粗さの評価
http://hdl.handle.net/10424/646
http://hdl.handle.net/10424/6462219edd3-cb1b-428d-b674-f389810dc247
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
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kengei514552.pdf (238.3 kB)
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| アイテムタイプ | 紀要論文 / Departmental Bulletin Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2008-12-04 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | 偏光解析によるシリコン基板表面粗さの評価 | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 偏光解析 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Ellipsometry | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | シリコン | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Silicon | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 表面粗さ | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Surface Roughness | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | 陽極酸化 | |||||
| キーワード | ||||||
| 主題Scheme | Other | |||||
| 主題 | Anodic Oxidation | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_6501 | |||||
| 資源タイプ | departmental bulletin paper | |||||
| その他のタイトル | ||||||
| その他のタイトル | Evaluation of Surface Roughness for Silicon Substrate by Ellipsometry | |||||
| 著者 |
清水, 秀己
× 清水, 秀己 |
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| 研究者総覧へのリンク | ||||||
| 清水, 秀己 | ||||||
| https://souran.aichi-edu.ac.jp/person/698d51a19d8a121ce581499d7b701668ja.html | ||||||
| 著者(別言語) | ||||||
| Shimizu, Hideki | ||||||
| 書誌事項 |
愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編 巻 51, p. 45-52, 発行日 2002-03-01 |
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| 出版者 | ||||||
| 出版者 | 愛知教育大学 | |||||
| ISSN | ||||||
| 収録物識別子タイプ | ISSN | |||||
| 収録物識別子 | 1346-1818 | |||||
| 書誌情報 | ||||||
| 愛知教育大学研究報告, 芸術・保健体育・家政・技術科学・創作編. 2002, 51, p.45-52. | ||||||
| 書誌レコードID | ||||||
| 収録物識別子タイプ | NCID | |||||
| 収録物識別子 | AA11528269 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | VoR | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_970fb48d4fbd8a85 | |||||
| 著者別名 | ||||||
| シミズ, ヒデキ | ||||||
| 資源タイプ | ||||||
| 内容記述タイプ | Other | |||||
| 内容記述 | text | |||||
