シリコン熱酸化膜形成におけるオゾンの促進効果

ログイン

愛知教育大学学術情報リポジトリ AUE Repository


	トップ


	ランキング

Language

インデックスツリー

インデックス

学術雑誌論文（学内発行分）

愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学

第49輯

Permalink : http://hdl.handle.net/10424/643

シリコン熱酸化膜形成におけるオゾンの促進効果

File / Name	License
kengei495765.pdf
kengei495765.pdf (283.7KB) [ 142 downloads ]

アイテムタイプ	紀要論文 / Departmental Bulletin Paper
言語	日本語
キーワード	熱酸化, Thermal Oxidation, オゾン, Ozone, シリコン, Silicon
その他のタイトル	Effects of Ozone on Thermal Oxidation of Silicon
著者	清水秀己 ( 科研費研究者番号: 70126936 , KAKEN - 研究者検索: 70126936 ) 種村修一
研究者総覧へのリンク	清水, 秀己
著者(別言語)	Shimizu, Hideki Tanemura, Syuichi
抄録	Thermal oxidation of Silicon a mixed oxygen and ozone ambient in the temperature range of 400℃-800℃ is reported. Beteen 400℃ and 600℃ a large enhancement in oxidation is observed compared with conventional oxide growth in a pure oxygen ambient. For temperature above 800℃ conventional thermal oxidation dominates and no significant enhancement is found. Effects of Ozone in short-time oxidation is more remarkable than in long-time oxidation, reflecting that surface reaction dominates in short-time oxidation.
雑誌名	愛知教育大学研究報告. 芸術・保健体育・家政・技術科学
巻	49
ページ	57 - 65
発行年	2000-03-01
出版者	愛知教育大学
ISSN	0388-7367
書誌情報	愛知教育大学研究報告, 芸術・保健体育・家政・技術科学. 2000, 49, p.57-65.
書誌レコードID	AN00006773
著者版フラグ	publisher
著者別名	シミズ, ヒデキタネムラ, シュウイチ Tanemura, Shuichi
資源タイプ	text

　愛知教育大学学術情報リポジトリ（愛称：AUE Repository）とは，愛知教育大学における教育・研究活動により創造された教育・研究成果及び愛知教育大学が所蔵する学術情報資料を蓄積・保存し，インターネットを通じて無償で公開するシステムです。
　本リポジトリに登録されている教育・研究成果等の著作権は，著者，出版社などが有しています。利用される場合には，著作権法に規定されている利用の範囲内で行ってください。

お知らせ

■各論文へのリンク, 引用を行う場合はコンテンツ詳細画面右上のPermalink(http://hdl.handle.net/10424/****)をご指定ください。このURIはシステム更新やサーバの移動があっても変更されない永続的な論文固有のIDです。

学内発行誌

検索

教員インタビュー

検索

メニュー

トップページ

AUE Repositoryへの登録について

登録にあたっての留意事項

愛知教育大学
愛知教育大学附属図書館
教育系サブジェクトリポジトリ
研究者・学生が論文を書く場合
（参考：SIST［科学技術情報流通技術基準］）

Aichi University of Education Library